Lokálna koncentrácia prúdu vo vákuovom lakovacom stroji

Lokálna koncentrácia prúdu vo vákuovom lakovacom stroji

Vysunutá časť bodu s vysokou hustotou elektrónov bude generovať prúd s vysokou hustotou a prúd s vysokou hustotou môže generovať teplo Joule a spôsobiť, že teplota bodu bude naďalej stúpať a vyžarovať horúce elektróny. Tento jav má za následok lokalizovanú koncentráciu prúdu.

Jouleovo teplo generované lokalizovanou koncentráciou prúdu môže vyvolať masívnu emisiu iónov a elektrónov z materiálu katódy, čím sa uvoľnia častice roztaveného materiálu katódy a zanechajú stopy po výboji.

Časť iónov vo veľkom počte vyvrhnutých iónov bude nasávaná späť na povrch katódového materiálu, aby sa regenerovala vrstva vesmírneho náboja a silné elektrické pole a novovytvorený bod s malou pracovnou funkciou začne opäť emitovať elektróny. .

Elektróny sú emitované z hraníc zŕn vákuových poťahovačov

Kovové ióny sú priťahované k povrchu katódy a môžu vytvárať vrstvu priestorového náboja. Silné elektrické pole spustené počas tejto doby spôsobuje vyvrhovanie elektrónov z mikrotrhlín alebo hraníc zŕn s malou pracovnou funkciou na povrchu katódy.

Vákuová vnútorná stena a anóda cieľového zdroja vákuového lakovacieho stroja

Po mnohých zrážkach energia elektrónov postupne klesá, zbavuje sa pút magnetických siločiar a nakoniec dopadá na substrát, vnútornú stenu vákuovej komory a anódu cieľového zdroja. Pri zrýchlení vysokonapäťového elektrického poľa sa ióny Ar plus zrazia s cieľom a uvoľnia energiu, čo spôsobí, že atómy na povrchu cieľa absorbujú kinetickú energiu iónov Ar plus a odtrhnú sa od pôvodnej mriežky. a neutrálne cieľové atómy unikajú z povrchu cieľa. Preleťte na substrát a naneste na substrát tenký film.

www.superbheater.com